Preview

Российские нанотехнологии

Расширенный поиск

Исследование режимов силовой зондовой нанолитографии

Полный текст:

Аннотация

Представлены результаты экспериментальных исследований режимов получения методом центрифугирования и наноразмерного профилирования методом силовой зондовой  нанолитографии (СЗН) пленок фоторезиста ФП-383. Исследования показали, что при  изменении объемного соотношения фоторезист/разбавитель (ФП-383/РПФ-383Ф) и  увеличении скорости вращения центрифуги от 1000 до 5000 об/мин толщина получаемых  пленок фоторезиста изменяется от 1083 ± 17 до 20 ± 2 нм. Для объемного соотношения  фоторезист/разбавитель 1:15 при увеличении скорости вращения центрифуги от 1000 до  5000 об/мин толщина и шероховатость полученных пленок изменялись от 50 ± 6 до 20 ± 2  нм и от 3.16 ± 0.20 до 2.23 ± 0.10 нм, соответственно. Разработана методика формирования наноразмерных структур в тонких пленках фоторезиста методом СЗН, с  помощью которой в пленке фоторезиста ФП-383 толщиной 20 ± 2 нм получены окна с  диаметром от 380 ± 32 до 16 ± 3 нм. Полученные результаты могут быть использованы при  разработке технологических процессов формирования элементов микро- и  наноэлектроники, микро- и наносистемной техники с использованием зондовых  нанотехнологий. 

Об авторах

Р. В. Томинов
Южный федеральный университет, Институт нанотехнологий, электроники и приборостроения, НОЦ «Нанотехнологии»
Россия
347928, Таганрог, ул. Шевченко, 2


В. А. Смирнов
Южный федеральный университет, Институт нанотехнологий, электроники и приборостроения, НОЦ «Нанотехнологии»
Россия
347928, Таганрог, ул. Шевченко, 2


Н. Е. Черненко
Южный федеральный университет, Институт нанотехнологий, электроники и приборостроения, НОЦ «Нанотехнологии»
Россия
347928, Таганрог, ул. Шевченко, 2


О. А. Агеев
Южный федеральный университет, Институт нанотехнологий, электроники и приборостроения, НОЦ «Нанотехнологии»
Россия
347928, Таганрог, ул. Шевченко, 2


Список литературы

1. Fahrner W. Nanotechnology and Nanoelectronics. Materials, devices, measurement techniques. 2005.

2. Park B.-G., Hwang S.W., Park Y.J. Nanoelectronic Devices. Pan Stanford Textbook Series on Nanotechnology. 2012. V. 1.

3. Bruning J.H. Optical Lithography… 40 years and holding // Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers. 2007. V. 6520. № 652004.

4. Bukharaev A.A., Bizyaev D.A., Nurgazizov N.I., Khanipov T.F. Fabrication of magnetic micro- and nanostructures by scanning probe lithography // Russian Microelectronics. 2012. V. 41. № 2. P. 78–84.

5. Ageev O.A., Alyab’eva N.I., Konoplev B.G., Polyakov V.V., Smirnov V.A. Photoactivation of the processes of formation of nanostructures by local anodic oxidation of a titanium film // Semiconductors Volume. 2010. V. 44. № 13. P. 1703–1708.

6. Ageev O.A., Balakirev S.V., Bykov Al.V., et al. Development of new metamaterials for advanced element base of micro- and nanoelectronics, and microsystem devices. Chapter In: Advanced Materials — Manufacturing, Physics, Mechanics and Applications. Parinov, Ivan A., Chang, Shun-Hsyung, Topolov, Vitaly Yu. (Eds.). Springer International Publishing Switzerland. 2016. P. 563–580.

7. Avilov V.I., Ageev O.A., Kolomiitsev A.S., Konoplev B.G., Smirnov V.A., Tsukanova O.G. The formation and study of the memristors matrix based on titanium oxide by using probe nanotechnologies methods // Semiconductors. 2014. V. 48. № 13. P. 1757–1762.

8. Garcia R, Knoll A.W., Riedo E. Advanced scanning probe lithography // Nature nanotechnology. 2014. V. 9. P. 577–587.

9. Tang Q., Shi S.-Q., Zhou L. Nanofabrication with Atomic Force Microscopy // Journal of Nanoscience and Nanotechnology. 2004. V. 4. № 8. P. 948–963.

10. Bizyaev D.A., Bukharaev A.A., Ziganshina S.A., Khanipov T.F., Chuklanov, A.P. Creation of lithographic masks using a scanning probe microscope // Russian Microelectronics. 2015. V. 44 № 6. P. 389–398.

11. Chen Y.-J., Hsu J.-H., Lin H.-N. Fabrication of metal nanowires by atomic force microscopy nanoscratching and lift-off process // Nanotechnology. 2005. V. 16. № 8. P. 1112–1115.

12. Sung I.-H., Kim D.-E., Nano-scale patterning by mechanochemical scanning probe lithography // Applied Surface Science. 2005. V. 239. № 2. P. 209–221.

13. Bizyaev D.A., Bukharaev A.A., Lebedev D.V., Nurgazizov N.I., Khanipov T.F. Nickel nanoparticles and nanowires obtained by scanning probe lithography using point indentation technique // Technical Physics Letters. 2012. V. 38. № 7. P. 645–648.

14. Akhavan O., Abdolahad M. // Physical bounds of metallic nanofingers obtained by mechano-chemical atomic force microscope nanolithography // Applied Surface Science. 2009. V. 255. № 6. P. 3513–3517.

15. Akhavan O., Abdolahad M. // Mechano-chemical AFM nanolithography of metallic thin films: A statistical analysis // Current Applied Physics. 2010. V. 10. № 4. P. 1203–1210.

16. Yong D.Y., Gao D.W., Hu Z.J., Zhao X.S., Yan J.C. Polymer Nanostructured Components Machined Directly by the Atomic Force Microscopy Scratching Method // International journal of precision engineering and manufacturing. 2011. V. 13. № 2. P. 269–273.

17. Моро У. Микролитография: принципы, методы, материалы. Часть 1. М.: Мир, 1990. С. 607.

18. Мартынов В.В., Базарова Т.Е. Литографические процессы. М.: Высш.школа, 1990. С. 128.

19. Lyuksyuto S.F., Vaia R.A. Electrostatic nanolithography in polymers using atomic force microscopy // Nature Materials. 2003. V. 2. P. 468–472.

20. Hassani S.S., Aghabozorg H.R. Nanolithography Study Using Scanning Probe Microscope // Recent Advances in Nanolithography Techniques and Applications. 2011. P. 458–471.


Просмотров: 42


ISSN 1992-7223 (Print)