Preview

Российские нанотехнологии

Расширенный поиск

ИССЛЕДОВАНИЕ РЕЖИМОВ НАНОРАЗМЕРНОГО ПРОФИЛИРОВАНИЯ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ МЕТОДОМ ЛОКАЛЬНОГО АНОДНОГО ОКИСЛЕНИЯ

Полный текст:

Аннотация

Представлены результаты исследования режимов наноразмерного профилирования поверхности подложки кремния КЭФ-0.1 (100) методом локального анодного окисления  (ЛАО). Исследовано влияние относительной влажности и амплитуды импульсов напряжения  при ЛАО на геометрические параметры оксидных наноразмерных структур (ОНС) кремния и  профилированных наноразмерных структур, сформированных в результате жидкостного  травления ОНС кремния. Показано, что увеличение амплитуды импульсов напряжения при ЛАО от 10 до 20 В приводит к увеличению высоты ОНС кремния от 0.6 ± 0.2 до 2.0 ± 0.3 нм при  относительной влажности 70 ± 1 %. Полученные результаты могут быть использованы при  разработке технологических процессов изготовления элементной базы наноэлектроники на основе кремния с использованием зондовых нанотехнологий.

Об авторах

В. В. Полякова
Южный федеральный университет, Институт нанотехнологий, электроники и приборостроения, НОЦ «Нанотехнологии»
Россия
347928, Таганрог, ул. Шевченко, 2


В. А. Смирнов
Южный федеральный университет, Институт нанотехнологий, электроники и приборостроения, НОЦ «Нанотехнологии»
Россия
347928, Таганрог, ул. Шевченко, 2


О. А. Агеев
Южный федеральный университет, Институт нанотехнологий, электроники и приборостроения, НОЦ «Нанотехнологии»
Россия
347928, Таганрог, ул. Шевченко, 2


Список литературы

1. Неволин В.К. Зондовые нанотехнологии в электронике. М.: Техносфера. 2014. 176 с.

2. Mohammad B., Jaoude M.A., Kumar V., Homouz D.M.A., Nahla H.A., Al-Qutayri M., Christoforou N. State of the art of metal oxide memristor devices // Nanotechnol Rev 2015. V. 3. № 5. P. 301–309.

3. Avilov V.I, Ageev O.A., Kolomiitsev A.S., Konoplev B.G., Smirnov V.A. Th e formation and study of the memristors matrix based on titanium oxide by using probe nanotechnologies methods // Semiconductors. 2014. V. 48. № 13. P. 1757–1762.

4. Авилов В.И., Агеев О.А., Смирнов В.А., Солодовник М.С., Цуканова О.Г. Исследование режимов наноразмерного профилирования поверхности эпитаксиальных структур арсенида галлия методом локального анодного окисления // Российские нанотехнологии. 2015. Т. 10. № 3–4. С. 42–46.

5. Chung T.H., Liao W.H., Lin S.Y. Th e fabrication of nanomesas and nanometal contacts by using atomic force microscopy lithography // J. Appl. Phys. 2010. V. 108. № 9. P. 094316.

6. Chew Z.J., Li L. A discrete memristor made of ZnO nanowires synthesized on printed circuit board // Mater. Let. 2013. V. 91. P. 298–300.

7. Ghenzi N., Rubi D.,.Mangano E., Gimenez G., Lell J., Zelcer A., Stoliar P., Levy P., Building memristive and radiation hardness TiO2-based junctions // Th in Solid Films. 2014. V. 550. P. 683– 688.

8. Rius G., Lorenzoni M., Matsui1 S., Tanemura1 M., Perez-Murano F. Boosting the local anodic oxidation of silicon through carbon nanofi ber atomic force microscopy probes // Beilstein J. Nanotechnol. 2015. V. 6. P. 215–222.

9. Soea A.K., Nahavandia S., Khoshmanesh K. Neuroscience goes on a chip // Biosensors Bioelectronics Article. 2012. V. 1. № 35. P. 1–13.

10. Giannitsis A.T., Microfabrication of biomedical lab-on-chip devices // Estonian J. Engin. 2011. V. 17. P. 109–139.

11. Panajotović R. Cleaning silicon and gold-coated substrates for SPM measurements // European network on applications of Atomic Force Microscopy to NanoMedicine and Life Sciences, 2013. www.afm4nanomedbio.eu.

12. Avilov V.I., Ageev O.A., Blinov Yu.F., Konoplev B.G., Polyakov V.V., Smirnov V.A., Tsukanova O.G., Simulation of the formation of nanosize oxide structures by local anode oxidation of the metal surface // Technical Physics. 2015. V. 60. № 5. P. 717–723.

13. Ageev O.A., Smirnov V.A., Solodovnik M.S., Rukomoikin A.V., Avilov V.I. A study of the formation modes of nanosized oxide structures of gallium arsenide by local anodic oxidation // Semiconductors. 2012. V. 46. № 94. P. 1616–1621.

14. Агеев А.О., Коноплев Б.Г., Поляков В.В., Светличный А.М., Смирнов В.А. Зондовая фотонно-стимулированная нанолитография структур на основе пленки титана // Микроэлектроника. 2007. Т. 36. № 6. С. 403–408.

15. Агеев О.А., Смирнов В.А. Методика выполнения измерений геометрических параметров массивов оксидных наноразмерных структур методом атомно-силовой микроскопии // МВИ 2009. Т. 2. № 94. С. 43–50.

16. Шевяков В.И. Локальное зондовое окисление. Основные проблемы // Известия ЮФУ. Технические науки. 2011. Т. 117. № 4. С. 35–39.

17. Волков А.И., Жарский И.М. Большой химический справочник. Минск: Современная школа. 2005. 139 с.


Просмотров: 34


ISSN 1992-7223 (Print)